本实用新型专利专利权专利的目地取决于出示单工艺流程旋转喷淋清洗机,以处理所述情况专业能力中明确提出的目前的旋转喷淋清洗机在应用时存有着一定的难题,在应用旋转喷淋清洗机时操作门关掉比较繁杂,全自动单工位旋转喷淋清洗机定做,密封性不太好,因为旋转喷淋清洗机內部运用水源消除,因此尽量一定的密封性来置放內部水源的泄露,便于降低消除和工作执行力,但目前旋转喷淋清洗机操作门在关掉时比较繁杂,不但操作难度系数十分大,除此之外消耗了時间,减少了工作效能,除此之外会存有一些水源泄露的状况,耽误了进展情况,导致了财产损失等难题。
独立清洗、贴片设备产品小于3英寸,使用Dipping方式清洗、独立偏光片贴附设备完成生产。本清洗机是用来清洗产品表面,去除表面杂质并烘干,为后续贴片工序做好准备。
先利用洗剂、DIW加上超声震荡,使表面杂质脱落融入洗剂,再利用DIW加超声震荡、热烘去除表面残留的洗剂、水份等,达到清洗目的。
清洗设备构成和主要性能指标
清洗设备构成如下:
投入段 => 洗净段 => 热烘段 => 取出段
清洗机构成图
投入段:
2-3个承载位置,手动单工位旋转喷淋清洗机定做,传感器感知工装篮有无,采用气缸升降移载方式投入,作动:Z向气缸上升 → X向气缸右移 → Z向气缸下降 → X向气缸退回原点 → 依循此方式将工装篮投入到洗净承载座上.注:本机构设有程序保护功能及SENSOR检知。
洗净段:
主要构成;承载位1个,合肥单工位旋转喷淋清洗机定做,洗剂槽2个,喷淋槽1个,洗净槽2个,慢提拉槽1个。
旋转喷淋清洗是浸入型清洗的变型。系统中一般包括自动配液系统、清洗腔体、废液回收系统。
喷淋清洗在一个密封的工作腔内一次完成化学清洗、去离子水冲洗、旋转甩干等过程,减少了在每一步清洗过程中由于人为操作因素造成的影响。在喷淋清洗中由于旋转和喷淋的效果,使得硅片表面的溶液更加均匀,同时,接触到硅片表面的溶液永远是新鲜的,这样就可以做到通过工艺时间设置,控制硅片的清洗腐蚀效果,实现很好的一致性。密封的工作腔可以隔绝化学液的挥发,减少溶液的损耗以及溶液蒸气对人体和环境的危害。各系统分别贮于不同的化学试剂,在使用时到达喷口之前才混合,使其保持鲜,以发挥潜力,这样在清洗时会反应快。用N2喷时使液体通过很小的喷口,使其形成很细的雾状,至硅片表面达到更好的清洗目的。
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